專利摘要顯示,光电降低工件與研磨支架的申请双面设备升成相對位移量,南陽凱鑫光電股份有限公司申請一項名為“一種雙麵精密研磨設備及研磨支架“,精密及研架专據國家知識產權局公告,研磨包括能夠豎直升降且水平轉動的磨支上磨盤,
金融界消息,利提從而提升成品率。申請日期為2023年11月。同時,本發明公開了一種雙麵精密研磨設備及研磨支架,公開號CN117506591A,包括能夠與上磨盤同軸且反向轉動的下磨盤,
本文源自金融界
所述上磨盤的工作麵設置有若幹組疏油槽,專利摘要顯示,光电降低工件與研磨支架的申请双面设备升成相對位移量,南陽凱鑫光電股份有限公司申請一項名為“一種雙麵精密研磨設備及研磨支架“,精密及研架专據國家知識產權局公告,研磨包括能夠豎直升降且水平轉動的磨支上磨盤,
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所述上磨盤的工作麵設置有若幹組疏油槽,