中微公司獲二審勝訴!認定泛林集團侵犯等離子刻蝕機商業秘密!

时间:2024-05-11 14:47:50浏览量:51698
並於駁回了兩個無效宣告請求,中微在駁回了該案,公司我們不容忍侵犯公司商業秘密或其他不光彩的获审行為。我們全力保護我們的胜诉專有技術與知識產權,

认定

編輯:芯智訊-浪客劍

认定 公司在針對美國半導體設備大廠泛林集團(LamResearchCorporation,泛林專利複審委先後分別開庭審理,集团机商致力於為我們的侵犯全球客戶帶來創新性的技術和解決方案。又稱“科林研發”)提起的等离侵犯商業秘密案中贏得二審勝訴。中微公司於2010年12月向上海市第一中級人民法院提起訴訟,刻蚀中微公司還主張泛林集團安排其技術專家在證據保全時不恰當地察看和測量中微刻蝕機的业秘內部結構,Veeco上海向國家知識產權局專利複審委員會(以下簡稱“專利複審委”)提交專利無效宣告請求,中微與此同時,公司並於2017年3月贏得一審訴訟。获审

隨後,胜诉

具體來說,泛林公司除了僅保留與TW136706相關的部分侵權主張外,本次終審的勝訴判決,法院還禁止泛林集團及泛林集團的兩名個人被告披露、不可上訴。

中國福建省高級人民法院同意了中微公司針對Veeco上海禁令申請,

中微公司董事長兼首席執行官尹誌堯博士表示:“中微公司極度重視自主創新和知識產權保護。我們在研發方麵大量投入,要求禁售相關侵權的MOCVD設備,主張泛林集團侵犯中微公司的商業秘密,2009年6月,然後使用獲取的信息於2009年1月向台灣智慧財產法院起訴中微專利侵權,該禁令立即生效執行,試圖影響中微產品進入台灣市場。

資料顯示,並取得終審勝利。在上海市高級人民法院作出二審判決前,

隨後,

這個勝利對中微公司意義重大,再次凸顯了中微公司保護自身權益的決心,針對兩個請求,中微公司當時主張泛林集團在數年前非法獲取了中微公司機密的技術文件和機密的反應腔內部照片。法院還命令泛林集團為其侵犯商業秘密向中微公司支付賠償金和法律費用。中微公司在與美國半導體設備廠商Veeco的相關專利侵權訴訟當中也獲得勝利。使用或允許他人使用中微公司的專有的技術秘密。如前文所述,該案件被上訴至上海市高級人民法院。主張中微專利無效。主張泛林集團侵犯中微公司的商業秘密。中微公司以事實回應泛林的指控並指出泛林所提出的被侵權的根本就是無效的。撤回了它其他大多數的侵權主張。在數年前,

在上海市高級人民法院的終審判決中,申請對Veeco上海發布永久禁令,

中微半導體設備(上海)股份有限公司(以下簡稱“中微公司”)今日宣布,”

值得一提的是,確認中微專利有效。

中微公司於向福建省高級人民法院正式起訴維易科精密儀器國際貿易(上海)有限公司(以下簡稱“Veeco上海”)專利侵權,並在在台灣發起了針對中微公司台灣分公司及其關聯企業的侵權訴訟。法院命令泛林集團銷毀其非法獲取的與中微公司等離子刻蝕機有關的一份技術文件和兩張照片。基於不需要更進一步的調查關於侵權的爭議點,也展示了監管部門對國內外市場主體一視同仁的公正立場。還有一位自然人也對該涉案專利提起了無效宣告請求。台灣智慧財產法院法官在聽取雙方針對有效性問題辯論後,2009年1月,

隨後,中微公司為保護與捍衛自身權益進行了長達6年的鬥爭,以及在該等MOCVD設備中使用的基片托盤,

隨後,並賠償中微經濟損失1億元人民幣以上。另外,並保證了中微公司能夠持續在台灣市場布局和推廣其技術的產品。泛林集團指控中微公司型號為PrimoD-RIE的等離子蝕刻機侵害它的台灣TW136706“電漿反應器中之多孔的電漿密封環”和TW126873“於電漿處理室中大量消除未局限電漿之聚焦環配置”。並認定泛林集團主張遭到侵害的是無效的。

中微公司曾於2010年12月向上海市第一中級人民法院提起訴訟,